CLC2 - Metrificação de patentes: Uma análise entre qualidade, complexidade e esforço.

CLC2 - Metrificação de patentes: Uma análise entre qualidade, complexidade e esforço.

Vídeo melhor visualizado na velocidade 1.5x. br Ciência da Lógica & Complexidade [CLC2]. Apresentação de um artigo científico que fala de técnicas para a mensuração de patentes de propriedade industrial, que são um tipo de atividade intelectual explicitada (AIE) que pode ser realizada por servidores públicos. O índice Interno de esforço (IIE), em sua aproximação da complexidade (IIEa) é comparado a outras técnicas da literatura científica, tendo como principal diferencial a capacidade de medir os resultados da patente no momento do seu depósito (registro). O IIEa é um medidor genérico da complexidade criado especialmente para melhorar a avaliação de desempenho de servidores públicos do Brasil. br br Referência: Oliveira, A. A., Fung, C. W. H., Burkarker, E., Pilatti, L. A. & Santos, C. B. (2023). Metrificação de patentes: Uma análise entre qualidade, complexidade e esforço. In: Encontro Nacional de Engenharia de Produção, 2023, Ceará. XLIII ENEGEP. DOI: 10.14488enegep2023tnst404198945333. Disponível em: .


User: Lógica & Complexidade

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Uploaded: 2025-01-14

Duration: 01:07:10

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